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江苏润玺环保设备有限公司
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半导体氧化设备公司-安徽半导体氧化设备-苏州润玺环保设备

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:587571341                    更新时间:2024-11-18
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根据清洗介质的不同,目前半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线。湿法清洗是针对不同的工艺需求,半导体氧化设备公司,采用特定的化学药液和去离子水,半导体氧化设备厂家,对晶圆表面进行无损伤清洗,以去除晶圆制造过程中的颗粒、自然氧化层、有机物、金属污染、牺牲层、抛光残留物等物质,可同时采用超声波、加热、真空等辅助技术手段;干法清洗是指不使用化学溶剂的清洗技术,主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等技术。

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