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半导体氧化设备报价-苏州润玺(在线咨询)-苏州半导体氧化设备

询盘留言|投诉|申领|删除 产品编号:578670032                    更新时间:2024-05-07
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  • 供货总量 : 不限
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随着半导体芯片工艺技术节点进入 28 纳米、14 纳米等更等级,工艺流程的延长且越趋复杂,产线成品率也会随之下降。造成这种现象的一个原因就是制程对杂质的敏感度更高,小尺寸污染物的清洗更困难。解决的方法主要是增加清洗步骤。每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过 200 道清洗步骤,半导体氧化设备供应商,晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性。

半导体氧化设备具有可密封容器(或氧化室),将具有内置加热器的加热台设置于这一氧化室的室内部。在加热台上设置衬底支座, 在衬底支座上放置半导体样品(或半导体衬底)。氧化室还设有用于向室内部提供包括蒸汽的氧化气氛的输入管和在氧化过程结束后用于排出室内部 中的氧化气氛的排出管。根据具有这样的结构的半导体氧化设备,有可能以相对高的复现性使半导体样品均勻氧化。

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